電気電子系 News

若林整研究室の松浦賢太朗さんがYoung Awardを受賞

応用物理学会主催でIEEE, EDS共催の国際会議IWJT 2019

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2019.06.24

授賞式でのProgram Committee Chairの柴田聡さんと松浦賢太朗さん

授賞式でのProgram Committee Chairの柴田聡さんと松浦賢太朗さん

賞状

若林整研究室の松浦賢太朗さんが応用物理学会主催で、IEEE, EDS共催の国際会議である19th International Workshop on Junction Technologies (IWJT) 2019において、Young Awardを受賞しました。

  • 受賞論文
学会名:
19th International Workshop on Junction Technologies (IWJT) 2019
賞の名称:
Young Award
受賞者:
松浦賢太朗
タイトル:
Normally-Off Sputtered-MoS2 nMISFETs with MoSi2 Contact by Sulfur Powder Annealing and ALD Al2O3 Gate Dielectric for Chip Level Integration
受賞日:
2019年6月7日

受賞者の声

この口頭発表では、ARディスプレイや高性能ロジックLSI向けに期待されている二次元半導体トランジスタ(2D FET)デバイス技術として、Bottom Up成膜技術により形成したMoS2膜をチャネル材料としたTop-gate nMOSFETにおいて、世界で初めてノーマリーオフ特性を実現したことを明らかにしました。特に、ゲート絶縁膜材料として単層Al2O3膜を、またソース・ドレインのコンタクトとしてMoSi2膜を用いて、さらにプロセスインテグレーション技術を高度化することで実現しました。今後もこの結果を基礎として、トランジスタ特性のさらなる高性能化を目指して研究を推進する予定です。

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