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中川茂樹研究室の仁田帆南さん（電気電子系M2）がiSIMでベストポスター賞を受賞

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2023.05.23

中川茂樹研究室の仁田帆南さん（電気電子系M2）が2023年5月14日～15日に仙台市の仙台国際センターで開催された The First International Symposium on Integrated Magnetics 2023（iSIM 2023）でベストポスター賞を受賞しました。

授賞式の様子

授賞式の様子

受賞概要

受賞者：
仁田帆南（M2）
学会名：
The First International Symposium on Integrated Magnetics 2023
賞：
iSIM Best Poster Award
タイトル：
Fabrication and characterization CoZrO films deposited by facing targets reactive sputtering for micro magnetic inductor
著者（受賞者以外の共著者、所属）：
金子忠幸、高村陽太、中川茂樹　（東工大）
受賞日：
2023年5月15日
受賞者：
仁田帆南（M2）
学会名：
The First International Symposium on Integrated Magnetics 2023
賞：
iSIM Best Poster Award
タイトル：
Fabrication and characterization CoZrO films deposited by facing targets reactive sputtering for micro magnetic inductor
著者（受賞者以外の共著者、所属）：
金子忠幸、高村陽太、中川茂樹　（東工大）
受賞日：
2023年5月15日
  • 受賞者のコメント

第一回目のiSIMでベストポスター賞を受賞できたこと、大変光栄に思います。中川先生、高村助教、卒業生である金子先輩をはじめ、日々支えてくださっている方々に感謝いたします。本研究では、高周波化が進むパワーエレクトロニクス回路で用いられるマイクロ磁気デバイスへ応用する為の磁性膜の作製と評価を行いました。磁性膜は本研究室独自の技術である対向ターゲット式反応性スパッタ法を用いて作製したCoZrOです。将来的にはこの磁性膜をマイクロ磁気デバイスに応用することで磁気デバイスのさらなる小型化に寄与することが目標です。

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