細野秀雄栄誉教授と神谷利夫教授がカール・フェルディナント・ブラウン賞を受賞

東京工業大学の細野秀雄栄誉教授（元素戦略MDX研究センター 特命教授）と神谷利夫教授（同センター長、材料コース 主担当）は、米国カリフォルニア大学サンディエゴ校の野村研二准教授（本学博士後期課程修了、元特任准教授）とともに、ディスプレイ分野で世界最大規模の学会The Society for Information Displays（SID）のカール・フェルディナント・ブラウン賞（Karl Ferdinand Braun Prize）を受賞しました。5月22日、米国ロサンゼルスで開催されたSIDの大会「Display Week 2023」で授賞式が執り行われました。

ブラウン賞は、ディスプレイ業界に多大な影響を与えた優れた技術的業績に対して毎年1件が授与され、SIDの個人賞の中では最高位に位置づけられています。対象となった業績は「高易動度アモルファス酸化物半導体、特に今日の世界の標準となりつつあるIGZO-TFTの技術における先駆的研究、継続的な科学と技術への貢献と産業的リーダーシップ」です。

IGZO-TFTは、2003年に結晶薄膜を使ってScience誌に、2004年にはアモルファス薄膜についてNature誌に、それぞれ初めて報告したもので、既に10,000回以上も引用されています。また、これらのTFTとそのディスプレイやメモリーなどの応用デバイスについて、数10件の特許群として世界各国で権利化されています。TFTはディスプレイの画素を駆動するキーとなる素子で、ディスプレイの性能を支配します。アモルファスIGZO-TFTは、それまで独占的に使われてきたアモルファスシリコンよりも電子が1桁ほど動きやすく、消費電力が少なく、しかも低温で容易に均質な薄膜が作製できるというメリットがあるため、今日では広く実用化が進んでいます。

細野栄誉教授が物質設計と全体のリーダーシップ、神谷教授が電子状態の解析、そして野村准教授がTFTの作製を主に担当し、この技術を完成させました。